質(zhì)量方針
QUALITY POLICY
以科技創(chuàng )新更好的服務(wù)大眾的日常需求
To better serve the daily needs of the public
with scientific and technological innovation
零污染、零排放
Zero pollution, zero emissions
超節能
Super energy saving
高科技
high technology
氣象沉積法工藝流程
MPCVD Process
生產(chǎn)原理技術(shù)
Production principle technology
高溫高壓法(HTHP)
優(yōu)點(diǎn)：設備成本低
缺點(diǎn)：雜質(zhì)，晶體尺寸小
產(chǎn)品尺寸：塊狀，一般最大邊小于1cm
使用領(lǐng)域：局限于鉆頭，刀具，珠寶
熱絲法化學(xué)氣相沉積(HFCVD)
優(yōu)點(diǎn)：沉積速度快，設備成本較低
缺點(diǎn)：雜質(zhì)，設備可放大性差
產(chǎn)品尺寸：片狀，厚度可控，直徑可達10厘米
使用領(lǐng)域：鉆頭，刀具，珠寶，散熱片，光學(xué)窗口，金剛石薄膜
直流電弧等離子體噴射法(DCAPJ)
優(yōu)點(diǎn)：沉積速度快，常壓下可運行
缺點(diǎn)：雜質(zhì)，設備可放大性差
產(chǎn)品尺寸：片狀，厚度可控，直徑可達10厘米
使用領(lǐng)域：鉆頭，刀具，珠寶，散熱片，光學(xué)窗口，金剛石薄膜
微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)
優(yōu)點(diǎn)：穩定，可擴贊，品質(zhì)高
缺點(diǎn)：設置成本偏高
產(chǎn)品尺寸：片狀，厚度可控，直徑可達10厘米以上
使用領(lǐng)域：鉆頭，刀具，珠寶，散熱片，III-V基底，金剛石薄膜，電化學(xué)電極少
和諧綠色的制造商，采用十二字方針追求卓越品質(zhì)，體現非凡價(jià)值。
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